Monolithic 3D Integration of Dual-Gated ALD Oxide-Channel Non-Volatile Capacitive Memory on 40nm Si CMOS for Digital Compute-in-Memory

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标题	Monolithic 3D Integration of Dual-Gated ALD Oxide-Channel Non-Volatile Capacitive Memory on 40nm Si CMOS for Digital Compute-in-Memory
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx8/11353461/11353475/113538...
DOI	10.1109/iedm50572.2025.11353811 doi
其它	期刊：2025 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) 作者：Junmo Lee; Chengyang Zhang; Siheon Park; Hyeonwoo Park; Tae-Hyeon Kim; et al 出版日期：2026-01-31
求助人	科研大白在 2026-10-16 17:12:56 发布自湖北，悬赏 10 积分
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