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标题
Growth of GaN on Si(111) Substrates via a Reactive-Sputter-Deposited AlN Intermediate Layer
网址
http://dx.doi.org/10.7567/jjap.52.08jb16
DOI
10.7567/jjap.52.08jb16 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Takaya Yamada; Tomoyuki Tanikawa; Yoshio Honda; Masahito Yamaguchi; Hiroshi Amano
出版日期：2013-05-31
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