Limits to Hole Mobility and Doping in Copper Iodide

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标题	Limits to Hole Mobility and Doping in Copper Iodide
网址	https://chemrxiv.org/engage/api-gateway/chemrxiv/assets/orp/...
DOI	10.26434/chemrxiv-2023-lttnf doi
其它	期刊：作者：Joe Willis; Romain Claes; Qi Zhou; Matteo Giantomassi; Gian-Marco Rignanese; et al 出版日期：2023-06-27
求助人	xmuchem 在 2026-04-24 16:48:54 发布，悬赏 10 积分
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