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标题
Impact of fluorine plasma and electrothermal annealing on the interfacial properties at Ni/ β -Ga 2 O 3 Schottky contacts
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DOI
10.1088/1674-4926/25050020 doi
其它 期刊:Journal of Semiconductors
作者:Jianggen Zhu; Jiaren Feng; Shuting Huang; Ning Yang; Binju Qiu; et al
出版日期:2026-02-17
求助人
Chen_Sam 在 2026-05-27 14:44:50 发布自广东,悬赏 10 积分
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    Chen_Sam Chen_Sam Lv4 求助人 发起了本次求助

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