New approach for quartz dry etching using hardmask for sub-90-nm photomask technology

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标题	New approach for quartz dry etching using hardmask for sub-90-nm photomask technology
网址	https://doi.org/10.1117/12.557675
DOI	10.1117/12.557675 doi
其它	期刊：Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI 作者：Hiroyoshi Tanabe; Sungmin Huh; Ki-Sung Yoon; Il-Yong Jang; Jung-Hyun Hwang; et al 出版日期：2004
求助人	Henry 在 2026-04-17 17:02:04 发布自广东，悬赏 20 积分
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