Characterization of ultrathin gate dielectrics formed by in-situ steam generation with nitrogen postprocessing

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标题	Characterization of ultrathin gate dielectrics formed by in-situ steam generation with nitrogen postprocessing 相关领域高分辨率透射电子显微镜材料科学分析化学（期刊）透射电子显微镜电介质二次离子质谱法氧化物氮气离子光电子学纳米技术化学冶金色谱法有机化学
网址	https://doi.org/10.1007/s11664-002-0158-8
DOI	10.1007/s11664-002-0158-8 doi
其它	期刊：Journal of Electronic Materials 作者：A. Karamcheti; V.H.C. Watt; Husam N. Alshareef; T. Y. Luo; M.D. Jackson; et al 出版日期：2002-02-01
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