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 Scalability limits of Talbot lithography with plasma-based extreme ultraviolet sources 基于等离子体的极紫外光源Talbot光刻的可扩展性极限
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期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者：Serhiy Danylyuk; Peter Loosen; K. Bergmann; Hyun‐Su Kim; Larissa Juschkin 出版日期：2013-07-08 |
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