Amorphisation and sub‐100‐nm exfoliation of hydrogen‐ion‐implanted silicon

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标题	Amorphisation and sub‐100‐nm exfoliation of hydrogen‐ion‐implanted silicon 相关领域剥脱关节无定形固体材料科学硅透射电子显微镜拉曼光谱退火（玻璃）离子拉曼散射离子注入分析化学（期刊）结晶学纳米技术化学复合材料石墨烯光学光电子学物理有机化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1002/pssc.200881453
DOI	10.1002/pssc.200881453 doi
其它	期刊：Physica status solidi. C, Conferences and critical reviews/Physica status solidi. C, Current topics in solid state physics 作者：O. Moutanabbir; B. Terreault; Alexandre Giguère 出版日期：2009-06-16
求助人	浅陌初心在 2025-10-27 18:23:36 发布，悬赏 10 积分
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