| 标题 |
Electrostatic Engineering of β-Ga2O3 Trench Metal–Insulator–Semiconductor Schottky Barrier Diodes Using a Bilayer Dielectric Stack 使用双层介质堆叠的β-Ga2O3沟槽金属-绝缘体-半导体肖特基势垒二极管的静电工程
相关领域
电介质
双层
二极管
材料科学
肖特基势垒
绝缘体(电)
光电子学
肖特基二极管
介电强度
化学
生物化学
膜
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices 作者:Ravikiran Lengare; Chandan Joishi; Saurabh Lodha 出版日期:2022-08-24 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)