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 Impact of Lithium Fluoride Buffer Layer on Contact Interface Engineering in a–IGZO TFTs 氟化锂缓冲层对a-IGZO薄膜晶体管接触界面工程的影响
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期刊：Current Applied Physics 作者：Donghyun Kim; Hyunsoo Park; Moonsoo Kim; Dongbhin Kim; Kyeong‐Bae Lee; et al 出版日期：2025-08-01 |
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