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Patterning at the Resolution Limit of Commercial Electron Beam Lithography
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网址
https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.2c02339
AI链接 lib4ri.ch lib4ri.ch nih.govdoi.org
DOI
10.1021/acs.nanolett.2c02339 doi
其它 期刊：Nano Letters
作者：Mohammad S. M. Saifullah; Mohamed Asbahi; Darren C. J. Neo; Zackaria Mahfoud; Hui Ru Tan; et al
出版日期：2022-09-07
求助人
wonderingria 在 2025-11-03 14:52:57 发布自上海，悬赏 10 积分
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