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标题
4-Levels Vertically Stacked SiGe Channel Nanowires Gate-All-Around Transistor with Novel Channel Releasing and Source and Drain Silicide Process
网址
https://www.mdpi.com/2079-4991/12/5/889/pdf?version=16467202...
DOI
10.3390/nano12050889 doi
其它 期刊：Nanomaterials
作者：Xiao-Hong Cheng; Yongliang Li; Fei Zhao; Anlan Chen; Haoyan Liu; et al
出版日期：2022-03-01
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傻傻的沛容 在 2026-09-23 21:15:54 发布自四川，悬赏 10 积分
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