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 Delivering metal oxide photoresists for EUV: overcoming challenges to scaling (Conference Presentation) 相关领域
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10.1117/12.2552894
doi
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期刊：Advances in Patterning Materials and Processes XXXVII 作者：Andrew Grenville; Benjamin Clark; Peter de Schepper; Michael Kocsis; Jason Stowers; et al 出版日期：2020-03-24 |
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