Unravelling the selective growth mechanism of AlO x with dimethylaluminum isopropoxide as a precursor in atomic layer deposition: a combined theoretical and experimental study

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标题	Unravelling the selective growth mechanism of AlO x with dimethylaluminum isopropoxide as a precursor in atomic layer deposition: a combined theoretical and experimental study
网址	http://dx.doi.org/10.1039/c9ta11575g
DOI	10.1039/c9ta11575g doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry A 作者：Jiaqiang Yang; Kun Cao; Quan Hu; Yanwei Wen; Xiao Liu; et al 出版日期：2020-01-01
求助人	2d3y 在 2026-11-03 18:36:05 发布自江苏，悬赏 10 积分
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