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Robotic normal constant force polishing of unknown-model workpieces using variable impedance control 基于可变阻抗控制的未知模型工件机器人法向恒力抛光
相关领域
阻抗控制
抛光
控制理论(社会学)
职位(财务)
电阻抗
接触力
平滑的
变量(数学)
灵活性(工程)
材料科学
常量(计算机编程)
跟踪(教育)
机械加工
过程(计算)
控制工程
机械阻抗
跟踪误差
插值(计算机图形学)
二次方程
控制器(灌溉)
计算机科学
机器人
机床
阻抗参数
机械工程
法向力
控制变量
机器人学
控制系统
最优控制
运动学
磁道(磁盘驱动器)
过程控制
弹道
二次规划
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期刊:Journal of Manufacturing Processes 作者:Ling-Xiao Li; Bohan Lu; Man Jiang; Lifu Gao; Yuxiang Sun 出版日期:2025-09-10 |
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