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CMOS-Compatible Doped-Multilayer-Graphene Interconnects for Next-Generation VLSI
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石墨烯 材料科学 电迁移 电阻率和电导率 兴奋剂 互连 光电子学 CMOS芯片 超大规模集成 电导率 分析化学(期刊) 电子工程 电气工程 纳米技术 计算机科学 化学 复合材料 物理化学 色谱法 工程类 计算机网络
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DOI
10.1109/iedm.2018.8614535 doi
其它 期刊:2021 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM)
作者:Junkai Jiang; Jae Hwan Chu; Kaustav Banerjee
出版日期:2018-12-01
求助人
月月 在 2025-09-26 11:18:39 发布自广东,悬赏 10 积分
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