| 标题 |
A Model for the Electrochemical Deposition and Removal of Metallic Impurities on Si Surfaces
硅表面金属杂质的电化学沉积与去除模型
相关领域
杂质
沉积（地质）
电化学
材料科学
金属
化学工程
冶金
纳米技术
电极
化学
工程类
地质学
物理化学
有机化学
古生物学
沉积物
|
| 网址 |
求助人暂未提供
AI链接 ieice.org |
| DOI |
暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
|
| 其它 |
期刊：IEICE Transactions on Electronics 作者：Hitoshi Morinaga; Makoto Suyama; Masashi Nose; Steven Verhaverbeke; Tadahiro Ohmi 出版日期：1996-03-25 |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接，等待应助者上传 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
科研助手6
SYLH
昏睡的蟠桃
nozero
cdercder
卡卡西
带头大哥
妞妞公主喜欢派大星
pcr163
彭于彦祖
Billy
HEIKU
子车茗
HEAUBOOK
平常的毛豆
iNk
迷人秋烟
LMNg6n
冰魂
Thien
皖公网安备34019202002308
