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Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for EUVL by magnetron sputtering deposition with bias assistance 相关领域
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期刊:Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX 作者:Bo Yu; Chun-shui Jin; Changqing Xie; Li-ping Wang; Hailiang Li; et al 出版日期:2018-03-19 |
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