| 标题 |
 Contact hole metrology study: understand the electron beam interaction with photoresist and how to minimize its impact |
| 网址 | |
| DOI |
10.1117/1.jmm.24.2.024004
doi
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| 其它 |
期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Mohamed Zidan; Gian Francesco Lorusso; Danilo D. Simone; Mohamed Saib; Alain Moussa; et al 出版日期：2025-06-18 |
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(2025-6-4)
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