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 Spatially controlled interfacial engineering by area-selective atomic layer deposition of Nb 2 O 5 for high-performance metal–insulator–metal capacitors 相关领域
电容器
材料科学
原子层沉积
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光电子学
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薄层
电容
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期刊：Materials Horizons 作者：Yongju Kwon; Jiwoo Oh; Jeongbin Lee; Chang Mo Yoon; Ji-Hoon Ahn; et al 出版日期：2026-01-01 |
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