Optimization of positive-tone metal-oxide resist process for high-NA DRAM applications

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标题	Optimization of positive-tone metal-oxide resist process for high-NA DRAM applications
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.3118464
DOI	10.1117/12.3118464 doi
其它	期刊：International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2026 作者：Herman Nicolai; Peter De Schepper; Kanta Yanagi; Rik Hoefnagels; Joost van Bree; et al 出版日期：2026-10-23
求助人	ADChem_JH 在 2026-11-02 07:30:11 发布自安徽，悬赏 20 积分
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