Structural and Photoluminescence Properties of nc-SiO x :H/a-SiO x :H Multilayer Films Deposited at Low Temperature by VHF-PECVD Technique

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标题	Structural and Photoluminescence Properties of nc-SiO x :H/a-SiO x :H Multilayer Films Deposited at Low Temperature by VHF-PECVD Technique VHF-PECVD低温沉积nc-SiO x：H/a-SiO x：H多层膜的结构和光致发光性能相关领域等离子体增强化学气相沉积光致发光材料科学光电子学纳米技术化学气相沉积
网址	http://dx.doi.org/10.1007/s10904-018-01055-2
DOI	10.1007/s10904-018-01055-2 doi
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