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Enhanced Performance of GaN Schottky Barrier Diodes by Oxygen Plasma Treatment
氧等离子体增强GaN肖特基势垒二极管的性能
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网址
https://doi.org/10.1109/ted.2022.3151563
DOI
10.1109/ted.2022.3151563 doi
其它 期刊：IEEE Transactions on Electron Devices
作者：Xiaobo Li; Feng Lin; Junye Wu; Zhiyue Zhang; Lijun Song; et al
出版日期：2022-02-24
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早日暴富 在 2025-12-05 18:06:13 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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