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标题
Depth profiles of hole traps in the tail region of Al ion implantation into p-type 4H-SiC
Al离子注入p型4H-SiC尾部空穴陷阱的深度分布
相关领域
离子注入 离子 材料科学 光电子学 原子物理学 化学 物理 有机化学
网址
https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad8e23
AI链接 iop.orgdoi.org
DOI
10.35848/1347-4065/ad8e23 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Haruki Fujii; Mitsuaki Kaneko; Tsunenobu Kimoto
出版日期：2024-11-01
求助人
polyethylene 在 2025-12-05 17:34:13 发布自上海，悬赏 10 积分
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