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 Band gap determination of chemically deposited Cu2S/Fe2O3 quaternary thin films 化学沉积Cu2S/Fe2O3四元薄膜带隙的测定
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期刊：Chalcogenide Letters 作者：R. O. Okoro; C. Augustine; R. A. Chikwenze; S. O. Amadi; P. N. Kalu; et al 出版日期：2022-05-01 |
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