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 Thermal conductivity of individual Si and SiGe epitaxially integrated NWs by scanning thermal microscopy 单个Si和SiGe外延集成NWs的扫描热显微镜热导率
相关领域
扫描热显微术
材料科学
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光学
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期刊：Nanoscale 作者：Jose Manuel Sojo Gordillo; Gerard Gadea; Mercè Pacios; Marc Salleras; Denise Estrada‐Wiese; et al 出版日期：2021-01-01 |
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