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标题
Effect of Process Temperature on Density and Electrical Characteristics of Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films Prepared by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition
工艺温度对等离子体增强原子层沉积Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜密度和电学特性的影响
相关领域
材料科学 薄膜 结晶度 原子层沉积 退火（玻璃） 远程等离子体 分析化学（期刊） 光电子学 复合材料 化学气相沉积 纳米技术 化学 色谱法
网址
https://www.mdpi.com/2079-4991/12/3/548/pdf?version=16442223...
AI链接 mdpi.com mdpi.com doaj.org nih.gov nih.govdoi.org
DOI
10.3390/nano12030548 doi
其它 期刊：Nanomaterials
作者：Hak-Gyeong Kim; Dongwan Hong; Jae-Hoon Yoo; Hee Chul Lee
出版日期：2022-02-05
求助人
wuhao 在 2025-08-20 16:34:36 发布自江苏，悬赏 10 积分
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