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标题
Electrochemical Atomic Layer Deposition and Etching – Enabling Technologies for Atomically-Precise Fabrication of High-Performance Interconnects
用于高性能互连的原子级精确制造的电化学原子层沉积和蚀刻技术
相关领域
原子层沉积 制作 纳米技术 材料科学 互连 蚀刻（微加工） 铜互连 小型化 集成电路 数码产品 光电子学 图层（电子） 计算机科学 电气工程 工程类 电信 病理 医学 替代医学
网址
https://doi.org/10.1149/ma2021-0124933mtgabs
DOI
10.1149/MA2021-0124933mtgabs doi
其它 期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM)
作者：Rohan Akolkar
出版日期：2021-05-30
求助人
努力搬砖 在 2025-11-03 08:38:02 发布自浙江，悬赏 10 积分
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  • 8个月前，求助关闭

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  • 8个月前

    努力搬砖 努力搬砖 Lv1 求助人 发起了本次求助

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