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 Preparation and optimization of Si3N4 ceramic slurry for low-cost LCD mask stereolithography 低成本LCD掩模立体光刻用Si3N4陶瓷浆料的制备与优化
相关领域
立体光刻
材料科学
陶瓷
泥浆
氮化硅
复合材料
硅
光电子学
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期刊：Ceramics International 作者：Xiangquan Wu; Chunjie Xu; Zhongming Zhang 出版日期：2020-12-10 |
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