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  Low sheet resistance buried metal bit line realized by high temperature metal CVD process in vertical channel transistor array 高温金属CVD工艺在垂直沟道晶体管阵列中实现的低片阻埋金属位线
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Chao Tian; Jiabao Sun; Yanlei Ping; Naizheng Wang; baodong han; et al 出版日期：2024-03-27 |
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