Exploring manufacturability of novel 2D channel materials: 300 mm wafer-scale 2D NMOS & PMOS using MoS2, WS2, & WSe2

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标题	Exploring manufacturability of novel 2D channel materials: 300 mm wafer-scale 2D NMOS & PMOS using MoS2, WS2, & WSe2
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/10413659/10413660/104138...
DOI	10.1109/iedm45741.2023.10413874 doi
其它	期刊：2023 International Electron Devices Meeting (IEDM) 作者：C. J. Dorow; T. Schram; Q. Smets; K. P. O’Brien; K. Maxey; et al 出版日期：2024-02-08
求助人	XY 在 2026-05-17 15:09:28 发布自北京，悬赏 10 积分
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