| 标题 |
 Cryogenic‐Assisted Hydrogen Fluoride Surface Reactions Enabling Reversibly Ultra‐High Selectivity of Atomic Layer Etching Between SiO 2 and SiN 相关领域
蚀刻（微加工）
选择性
氟化氢
基质（水族馆）
图层（电子）
材料科学
氢
表面改性
原子层沉积
氟化物
化学工程
分子
氩
无机化学
化学
氟
缓冲氧化物腐蚀
各向同性腐蚀
化学反应
活化能
离子
氢氟酸
分析化学（期刊）
半导体
催化作用
乙醇
反应机理
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| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Small methods 作者：Shih‐Nan Hsiao; Makoto Sekine; Ryutaro Suda; Yoshihide Kihara; Masaru Hori 出版日期：2025-11-22 |
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