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 Low Energy Xe+ Ion Beam Machining of the Ultralow Expansion Glass Substrates for Aspherical Extreme Ultraviolet Lithography Projection Optics 相关领域
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Hironori Endo; Junya Yamada; Shahjada A. Pahlovy; Iwao Miyamoto 出版日期：2011-06-01 |
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