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标题
Chemical vapor phase etching of polycrystalline selective to epitaxial Si and SiGe
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DOI
10.1016/j.tsf.2005.08.390 doi
其它 期刊:Thin Solid Films
作者:Yuji Yamamoto; Bernd Tillack; Klaus Köpke; Oksana Fursenko
出版日期:2006-06-01
求助人
成就的寒梅 在 2026-08-26 14:23:46 发布自江苏,悬赏 10 积分
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