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标题
Characterization of Through-Hole Filling by Copper Electroplating Using a Tetrazolium Salt Inhibitor
相关领域
镀铜 电镀(地质) 电镀 循环伏安法 电化学 氯化物 材料科学 化学 氯化铜 冶金 图层(电子) 复合材料 电极 物理化学 地质学 地球物理学
网址
DOI
10.1149/2.005312jes doi
其它 期刊:Journal of The Electrochemical Society
作者:Guan-Ye Lin; Jhih-Jyun Yan; Ming-Yao Yen; Wei-Ping Dow; Su-Mei Huang
出版日期:2013-01-01
求助人
JIRUIYI 在 2026-08-06 10:15:40 发布自内蒙古,悬赏 10 积分
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