| 标题 |
Insights into different etching properties of continuous wave and atomic layer etching processes for SiO2 and Si3N4 films using voxel-slab model |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者:Nobuyuki Kuboi; Tetsuya Tatsumi; Jun Komachi; Shinya Yamakawa 出版日期:2019-08-30 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)