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Low Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Metal Oxide Thin Films
低温等离子体增强原子层沉积金属氧化物薄膜
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DOI
10.1149/1.3428705 doi
其它 期刊:Journal of The Electrochemical Society
作者:Stephen E. Potts; W. Keuning; E. Langereis; G. Dingemans; M. C. M. van de Sanden; et al
出版日期:2010-01-01
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韦涔 在 2025-05-22 11:15:30 发布自山西,悬赏 10 积分
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