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 High-resolution chemical patterns from negative tone resists for the integration of extreme ultraviolet patterns of metal-oxide resists with directed self-assembly of block copolymers 负性抗蚀剂的高分辨率化学图案用于金属氧化物抗蚀剂的极紫外图案与嵌段共聚物的定向自组装集成
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紫外线
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光学
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Kyunghyeon Lee; Emma Vargo; E. Radecke Christopher; Ricardo Ruiz; Paul F. Nealey 出版日期：2024-10-31 |
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