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Characterization of electrically stressed power device metallization using nano-CT imaging
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网址
https://doi.org/10.1016/j.microrel.2022.114589
AI链接 fraunhofer.dedoi.org
DOI
10.1016/j.microrel.2022.114589 doi
其它 期刊：Microelectronics Reliability
作者：Dominik Mueller; Christian Fella; Frank Altmann; Jonas Graetz; Andreas Balles; et al
出版日期：2022-06-21
求助人
Wil 在 2026-01-12 15:39:41 发布自江苏，悬赏 10 积分
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