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 Theoretical Understanding of the In-plane Tensile Strain Effects on Enhancing the Ferroelectric Performance of Hf0.5Zr0.5O2 and ZrO2 Thin Films 面内拉伸应变对提高Hf0.5Zr 0.5 O2和ZrO2薄膜铁电性能影响的理论认识
相关领域
材料科学
铁电性
拉伸应变
极限抗拉强度
复合材料
电介质
光电子学
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| 其它 |
期刊：Nanoscale 作者：Kun Hee Ye; Tae-Young Jeong; Seungjae Yoon; Dohyun Kim; Cheol Seong Hwang; et al 出版日期：2024-01-01 |
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