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 Deep anisotropic LiNbO3 etching with SF6/Ar inductively coupled plasmas 相关领域
蚀刻（微加工）
感应耦合等离子体
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Jun Deng; Jia Wei; Ching Eng Png; Guangyuan Si; Jaesung Son; et al 出版日期：2012-01-01 |
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