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Modeling the charging effect of the hardmask and silicon substrate during plasma etching in advanced nodes
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DOI
10.1063/5.0243470 doi
其它 期刊:Journal of Applied Physics
作者:Yuxuan Zhai; Rui Ge; Ziyi Hu; Junjie Li; Hua Shao; et al
出版日期:2025-02-12
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甜甜钢铁侠 在 2026-10-24 16:20:09 发布自中国,悬赏 10 积分
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