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标题
Modeling and control of L-type network impedance matching for semiconductor plasma etch
网址
DOI
10.1116/6.0003444 doi
其它 期刊:Journal of vacuum science and technology
作者:Carlos Rodriguez; Jairo Viola; YangQuan Chen; Joaquín Álvarez
出版日期:2024-03-01
求助人
Trip_wyb 在 2026-08-26 23:29:45 发布自湖北,悬赏 10 积分
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  • 20天前,求助关闭

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  • 25天前

    Trip_wyb Trip_wyb Lv1 求助人 发起了本次求助

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