Atomic Layer Deposition of Oxide Thin Films with Metal Alkoxides as Oxygen Sources

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标题	Atomic Layer Deposition of Oxide Thin Films with Metal Alkoxides as Oxygen Sources 以金属醇盐为氧源的氧化物薄膜的原子层沉积相关领域原子层沉积氧化物金属图层（电子）硅氧气材料科学无机化学原子层外延沉积（地质）薄膜卤化物氧化物薄膜晶体管纳米技术化学工程薄膜晶体管化学光电子学冶金有机化学地质学古生物学沉积物工程类
网址	https://doi.org/10.1126/science.288.5464.319
DOI	10.1126/science.288.5464.319 doi
其它	期刊：Science 作者：Mikko Ritala; Kaupo Kukli; Antti Rahtu; Petri I. Räisänen; Markku Leskelä; et al 出版日期：2000-04-14
求助人	韦涔在 2025-05-22 10:33:57 发布自山西，悬赏 10 积分
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