Atomic layer deposition of ultrathin indium oxide and indium tin oxide films using a trimethylindium, tetrakis(dimethylamino)tin, and ozone precursor system

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标题	Atomic layer deposition of ultrathin indium oxide and indium tin oxide films using a trimethylindium, tetrakis(dimethylamino)tin, and ozone precursor system 使用三甲基铟、四（二甲氨基）锡和臭氧前体体系的超薄氧化铟和氧化铟锡薄膜的原子层沉积
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-abstract/37/1/010905/24...
DOI	10.1116/1.5058171 doi
求助人	double bubble 在 2025-07-31 22:51:26 发布自美国，悬赏 10 积分
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