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Atomic layer deposition of ultrathin indium oxide and indium tin oxide films using a trimethylindium, tetrakis(dimethylamino)tin, and ozone precursor system
使用三甲基铟、四(二甲氨基)锡和臭氧前体体系的超薄氧化铟和氧化铟锡薄膜的原子层沉积
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DOI
10.1116/1.5058171 doi
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double bubble 在 2025-07-31 22:51:26 发布自美国,悬赏 10 积分
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