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 Lloyd’s mirror interference lithography below a 22-nm pitch with an accessible, tabletop, 13.5 nm high-harmonic EUV source 22 nm间距以下的劳埃德镜干涉光刻，采用可访问的桌面13.5 nm高次谐波EUV源
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极紫外光刻
干涉光刻
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