Contact Cavity Shaping and Selective SiGe:B Low-Temperature Epitaxy Process Solution for sub 10-9 Ω.cm2 Contact Resistivity in Nonplanar FETs

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标题	Contact Cavity Shaping and Selective SiGe:B Low-Temperature Epitaxy Process Solution for sub 10-9 Ω.cm2 Contact Resistivity in Nonplanar FETs
网址	http://dx.doi.org/10.23919/vlsitechnologyandcir57934.2023.10...
DOI	10.23919/vlsitechnologyandcir57934.2023.10185379 doi
其它	期刊：2023 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits) 作者：N. Breil; B-C. Lee; J. Avila Avendano; J. Jewell; M. Vellaikal; et al 出版日期：2023-06-11
求助人	Hamil 在 2026-07-06 12:21:14 发布自美国，悬赏 10 积分
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