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标题
Topology-Directed Siloxane-Based Thiol–Ene Photoresists for Ultraviolet Nanoimprint Lithography
相关领域
材料科学 纳米压印光刻 光刻胶 固化（化学） 支化（高分子化学） 流变学 聚合 抵抗 聚合物 平版印刷术 光致聚合物 热稳定性 复合材料 预聚物 纳米技术 紫外线 热的 硅氧烷 化学工程 紫外线固化 纳米复合材料 光刻 收缩率 表征（材料科学） 位阻效应 分散性 紫外线 热处理 数值孔径
网址
http://dx.doi.org/10.1021/acsami.6c04362
AI链接 nih.govdoi.org
DOI
10.1021/acsami.6c04362 doi
其它 期刊：ACS Applied Materials & Interfaces
作者：Wei-Gui Kang; Hao-Tian Xiao; Jia-Qi Sun; Hao-Chen Guo; Xiang-Bin Zou; et al
出版日期：2026-07-03
求助人
木木 在 2026-09-17 09:56:30 发布自山东，悬赏 10 积分
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  • 1小时前

    科研通AI2.0 科研通AI2.0 机器人 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载

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  • 1小时前

    木木 木木 Lv44 求助人 发起了本次求助

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