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Boron and high-k dielectrics: Possible fourth etch stop colors for multipattern optical lithography processing |
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者:Shailesh Dhungana; Thuong D. Nguyen; Bradley J. Nordell; Anthony N. Caruso; Michelle M. Paquette; et al 出版日期:2017-01-27 |
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