Low Temperature Epitaxy of In Situ GaDoped Si1-XGex: Dopant Incorporation, Structural and Electrical Properties

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标题	Low Temperature Epitaxy of In Situ GaDoped Si1-XGex: Dopant Incorporation, Structural and Electrical Properties
备注	仅接受作者稿、机构仓储版或其他合法可分享版本；请勿上传来源不明或绕过访问限制取得的版本。 💡 该求助存在备注，如果存在信息冲突，请以备注为准
网址	https://doi.org/10.1149/ma2022-02321216mtgabs
DOI	10.1149/ma2022-02321216mtgabs doi
其它	DOI 与题名已核对；需要完整正文。
求助人	capi 在 2026-08-30 21:19:38 发布自上海，悬赏 10 积分
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